而凯文和邱希望更是两个科研疯子，经常连轴转的。特别是接触到这个新行业之后，除了吃饭睡觉，其他时间基本都在公司。

斯密特虽然是欧洲人，但是搞研发的恨不得把时间掰成两半用，对于这样的员工自然大加赞赏。把越来越多的事情交给两个人来做。

本来邱希望和凯文就每天都和光刻机打交道，对这方面了解极深，斯密特这一重用，这一块东西对两个人很快就没了秘密，很快就能参与到核心部件的研发了。

查红英和斯密特的对赌时间是一年，所以斯密特基本也都在连轴转当中。他可不愿意把自己的股份白白送出去。而邱希望和凯文也就成了唯一能无条件配合他的人。

只是一种新产品的研发太艰难了。2002年全球芯片产业发展进入瓶颈期，摩尔定律也开始止步不前。摩尔定律是由英特尔创始人之一的戈登·摩尔提出来的，其内容为：当价格不变时，集成电路上所能容纳的元器件数目每隔大约18~24个月就会增加一倍，性能也将提升一倍。

过去半个多世纪以来，摩尔定律一直在发挥作用，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片的制程缩小至65nm时，摩尔定律开始失效。

日本光刻机巨头尼康和佳能发扬传统艺能，选择了保守求稳，寄希望于157nm波长光刻、以空气为介质的“干式”光刻技术的突破上。

而这时候则2002年，时任台光电光刻技术研发负责人的林务本提出了一项构想，即利用水做介质的浸润式光刻。

原理是利用光通过液体介质时会弯折的特性，显微镜的影像透过浸湿的镜头会进一步放大。

相反地，当光线通过浸在液体中的微缩影镜头时，就能将影像藉由折射率进一步缩小。林务本认为市面上既有的193nm微影透过水折射的效果要比正在攻克的157nm效果会好得多。

在台光电的支持下林务本带着方案亲自跑遍美国、德国、日本等地，但无人理会，因为在如此精密的仪器中加水的想法听着就不靠谱，并且当时的光刻机厂商已将大量的研发投资押注157nm干式光刻机，此时要他们再开一条技术路线，投资风险太大。

尼康甚至仗着垄断地位要求台积电雪藏林务本。最后，走投无路的林务本，遇到了雄心勃勃的AS斯密特，二者一拍即合。斯密特清楚只有技术才能以小博大，要想在技术上打败尼康和佳能，新的技术路线就是机会。