而这一选择,其实有着很强烈的极限终极的意味,因为即使尼康成功的研发了157nm制程的F2激光光刻机,那么18到24个月以后呢,怎么还能研发这一类激光源已经到了极限的157nm制程天堑以下的光刻机?
新生的EUV LLC联盟则押注更激进的极紫外技术,在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。
也就是说,ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机,使用极紫外技术,是光刻机领域一个新的征程的起点。
正在做着从零到一,从虚无到实质的尝试性跃迁。
假如能够成功,那么再从一到二,从二到三,则是顺理成章的依次类推递进。
而尼康想要研发的157nm F2激光光刻机,则是一个垂垂老矣回光返照式的最后的荣光尊严和骄傲,之后则要面对着157nm制程的极限天堑无法跨越,则是注定被扫进时光的垃圾桶里面。
这里面按道理孰优孰劣,已经是一目了然。
但是尼康所要做的事情,有着很大的成功性,然而ASML集中数百亿资金押注极紫外光,无异于是一场世纪豪赌。
赢了大家都去会所嫩模,输了都去砖窑搬砖下苦力,虽然两者干的都是体力活,然而一个是男人的天堂,一个是男人的炼狱。
在赵长安的这个时代,历史上的一些微小细节还是和他记忆中的前一世有着细微的差别。
那个在赵长安的那个时空里面,拿着自己的那一套‘沉浸式光刻’理论,跑遍世界一流的光刻机企业的林博士,在这个时空却因为突然发了财,又遇到了自己的真爱,整天享受着快乐的夫妻生活,根本就没有想到这个方法。
假如想要降低光的波长,光源出发是根本方法,水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水,原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的天堑,降低到132nm?
也就是说,现在在这个世界上,只有赵长安一人知道这个‘沉浸式光刻理论’!